102 / 126
Actual Problems in Machine Building. Vol. 4. N 3. 2017
Materials Science
in Machine Building
____________________________________________________________________
102
Рис. 1.
Зависимость КИП,% от силы тока
электрической дуги I, A для порошков NiCr с
различными расходами плазмообразующего
газа R
N2
: 1 – 55 л/мин,; 2 50 л/мин; 3 -45
л/мин; (L=110 мм, R
пор.
=4,5 кг/час, фракция
порошка 40…63 мкм).
Рис. 2.
Зависимость КИП,% от дистанции
напыления L, мм для порошков NiСr : 1 – c
фракцией 40…63 мкм; 2 –с фракцией
63…100 мкм; 3 – с фракцией 100…160 мкм;
(I=550 A, R
N
=50 л/мин, R
пор.
=4,5 кг/час).
Следующим этапом являлась оптимизация процесса нанесения твердого слоя на
основе диоксида циркония. На рисунках 3-4 представлены зависимости коэффициента
использования распыляемого порошка (КИП, %) на основе диоксида циркония при
плазменном напылении его на подслой из никельхрома от перечисленных выше условий
напыления. Зависимость КИП,% от дистанции напыления показана на рисунке 3.
Рис. 3.
Зависимость КИП,% от дистанции
напыления L, мм для порошков ZrO
2
: 1- c
фракцией < 50 мкм ; 2- с фракцией 50–63
мкм; (I=500 A, R
N
=50 л/мин, R
пор.
=4,5
кг/час).
Рис. 4.
Зависимость КИП,% от расхода
плазмообразующего газа N
2
для порошков
ZrO
2
: 1 – c фракцией < 50 мкм; 2 – с
фракцией 50–63 мкм; (L=100 мм; I=500 A;
R
пор.
=4,5 кг/час).
При малых дистанциях напыления частица не успевает достаточно нагреться и
достигает подложки с температурой <t
пл
. В нашем случае возрастание КИП идет до L=100